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多媒體紀念館規劃設計,vr紀念館設計布局,抗戰紀念館設計圖片
發布時間: 2023-04-25 15:29 更新時間: 2024-11-05 17:00
多媒體紀念館規劃設計,vr紀念館設計布局,抗戰紀念館設計圖片
在規劃設計中,紀念館處于整個規劃區的中軸黃金位,凸顯其份量之重。紀念館的造型簡潔大方,正立面氣勢恢宏,西側高高揚起,猶如一面飄揚的紅旗。主入口創造地運用變形的五角星,體現獨特內涵,具有鮮明的外觀特征和較強的吸引力和震撼力。
紀念館綜合運用展板、聲光電、浮雕、造型場景、手繪畫、展柜等多重手段,旨在全方位,立體化地將革命根據地的每一個重要史實生動地呈現。“
正面6面窗戶設計成上窄下寬,類似槍的形態,隱喻“槍桿里出政權”的思想。北面的窗戶設計成小開口,且成對出現,隱喻敵人的眼睛在窺視。紀念館分上下兩層,高度15.8米,建筑面積7365平方米,采用規整的柱網和開敞的空間設計,提供了高效、靈活的展覽空間。
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